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              全譜直讀光譜儀

              全譜直讀光譜儀

              簡(jiǎn)要描述:NH-T5全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術(shù),應用了日本濱松公司的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設值火花個(gè)數,與光譜儀技術(shù)同步,采用真空光室設計及全數字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設計合理,操作簡(jiǎn)單易學(xué),具有數據準確,長(cháng)期穩定性好等優(yōu)點(diǎn)。

              產(chǎn)品型號: NH-T5

              所屬分類(lèi):NH-T5型全譜直讀光譜儀

              更新時(shí)間:2024-06-19

              詳細說(shuō)明:

              1.NH-T5全譜直讀光譜儀主要技術(shù)參數

              應用領(lǐng)域

              冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車(chē)、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

              可檢測基體

              鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

              光學(xué)系統

              帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統

              波長(cháng)范圍

              140~680nm

              光柵焦距

              401mm

              探 測 器

              高性能CMOS陣列/CCD陣列

              光源類(lèi)型

              數字光源,高能預燃技術(shù)(HEPS)

              放電頻率

              100-1000Hz

              放電電流

              大500A

              工作電源

              AC220V 50/60Hz 1200W

              儀器尺寸

              780*565*360mm

              儀器重量

              約80kg

              檢測時(shí)間

              依據樣品類(lèi)型而定,一般20S左右

              電極類(lèi)型

              鎢材噴射電極

              分析間隙

              4mm

              其他功能

              真空,溫度,軟件自動(dòng)控 壓力,通訊監測

              2. NH-T5全譜直讀光譜儀主要技術(shù)特點(diǎn)

              高性能光學(xué)系統

              光學(xué)系統激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光學(xué)室,實(shí)現光路直通,有效的降低光路損耗;

              采用高精度的CMOS元件可準確測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;

              測定結果準確,重復性及長(cháng)期穩定性好。

              自動(dòng)光路校準

              自動(dòng)光路校準,光學(xué)系統自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;

              儀器自動(dòng)識別特定譜線(xiàn)與原存儲線(xiàn)進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線(xiàn)當前的像素位置進(jìn)行測定。

              插拔式透鏡設計

              真空光學(xué)系統采用*的入射窗與真空隔離,可在真空系統工作狀態(tài)下進(jìn)行操作,光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結構,日常清洗維護方便快捷。

              真空室一體化

              *的光室結構設計,使真空室容積更小,抽真空時(shí)間僅普通光譜儀的1/2;

              真空室一體化設計及高精密的加工,使真空保持的更加持久。

              真空防返油技術(shù)

              多級隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓差閥門(mén)保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空*隔離

              中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進(jìn)入真空室,保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

              開(kāi)放式激發(fā)臺

              開(kāi)放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設計,以滿(mǎn)足客戶(hù)現場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析;

              配合使用小樣品夾具,線(xiàn)材低分析可達到3mm。

              噴射電極技術(shù)

              采用*的噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周?chē)鷷?huì )形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì )與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度

              配上*氬氣氣路設計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶(hù)使用成本。

              集成氣路模塊

              氣路系統采用氣路模塊免維護設計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng )造了良好的環(huán)境。

              數字化激發(fā)光源

              數字激發(fā)光源,采用等離子激發(fā)光源,超穩定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;

              全數字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩定率輸出;

              可任意調節光源的各項參數,滿(mǎn)足各種不同材料的激發(fā)要求。

              高速數據采集

              儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數據采集分析功能,并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

              以太數據傳輸

              計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時(shí)計算機和打印機*外置,方便升級和更換;

              可以遠程監控儀器狀態(tài),多通路操控系統控制和監控所有的儀器參數。

              預制工作曲線(xiàn)

              備有不同材質(zhì)和牌號的標樣庫,儀器出廠(chǎng)時(shí)工廠(chǎng)預制工作曲線(xiàn),方便安裝調試和及時(shí)投入生產(chǎn);

              根據元素和材質(zhì)對應的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數儀器出廠(chǎng)時(shí)已經(jīng)調節好,根據分析程序可自動(dòng)選擇合適的測試條件;

              技術(shù)規格中附有分析范圍(并可根據用戶(hù)提供標樣免費繪制或延長(cháng)工作曲線(xiàn))。

              分析速度快

              分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;

              針對不同的分析材料,通過(guò)設置預燃時(shí)間及測量時(shí)間,使儀器用短時(shí)間達到良好的分析效果。

              多基體分析

              光路設計采用羅蘭圓結構,檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線(xiàn),不增加硬件設施,即可實(shí)現多基體分析;

              便于根據生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類(lèi)和分析元素(無(wú)硬件成本)。

              軟件中英文系統

              儀器操作軟件*兼容于Windows7/8/10系統;

              軟件操作簡(jiǎn)單,即使沒(méi)有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單的知識培訓即可上手使用。




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